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CT-1Plus自動(dòng)電位滴定儀測(cè)定雙氧水的濃度

更新時(shí)間:2025-08-22      點(diǎn)擊次數(shù):84

關(guān)鍵詞:雙氧水

行業(yè):半導(dǎo)體


CT-1Plus電位滴定測(cè)定雙氧水的濃度

摘要

雙氧水在半導(dǎo)體行業(yè)中主要用作半導(dǎo)體晶體片的清洗劑、腐蝕劑和光刻膠的去除劑,用于電子工業(yè)制取高級(jí)絕緣層、去除電鍍液中無(wú)機(jī)雜質(zhì),以及半導(dǎo)體材料制造工序的處理等,它的純度對(duì)集成電路的成品率、電性能及可靠性都有著十分重要的影響。本例通過(guò)電位滴定法測(cè)定一種雙氧水的濃度。


儀器配置

●CT-1Plus電位滴定儀

CT-1PLUS電位滴定儀

●ORP-101C電極

●20mL高精度計(jì)量管

●100mL滴定杯


試劑配置

●滴定劑:高某錳某酸某鉀標(biāo)準(zhǔn)溶液(1/5KMnO4)

●滴定度:0.1mol/L

●溶劑:純水/1mol/L硫酸溶液

●其它試劑:硫酸錳


測(cè)定方法

●氧化還原滴定/電位滴定

●適量樣品于干燥燒杯中,加入50mL 1mol/L硫酸溶液,0.5克硫酸錳,攪拌溶解

●將燒杯置于滴定臺(tái)上,選擇雙氧水含量滴定方法,用高某錳某酸某鉀標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定到終點(diǎn)


儀器參數(shù)

● 最小滴定體積:20μL  

● 最大滴定體積:100μL

● 攪拌速度:200        

● 每滴間隔:1000ms

● 終點(diǎn)模式:微分閾值判定   

● 微分設(shè)置:200


測(cè)試數(shù)據(jù)

● 環(huán)境溫度:23℃ ● 環(huán)境濕度:50%  

● 測(cè)試時(shí)間:3min 

序號(hào)

樣品量/g

終點(diǎn)體積/mL

含量結(jié)果/%

平均值/%

1

0.0270

4.3703

27.53

27.54

2

0.0273

4.4176

27.53

3

0.0328

5.3115

27.55 

測(cè)試結(jié)果:經(jīng)測(cè)試,雙氧水的濃度約為27.54%。

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